近日国内光刻机产业链的企业之一，传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果，国产EUV光刻机已取得了重大进展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及。

光刻机之所以难，在于它是集诸多行业的精华于一身，需要诸多产业链企业共同配合才能量产，一台光刻机就有上万个元件，可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链。

此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队就已研发出光刻机双工作台，由此中国成为全球第二个可以生产双工作台的国家；此外激光头、镜头等厂商也陆续生产出先进的组件，各个产业链企业的努力正逐渐完善国内的光刻机产业链。

此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破。EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大，在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候，DUV光刻机量产自然就更没难度了。

中国在光刻机方面的技术迅速突破，在于此前具有一定的基础，事实上在1990年代的时候，我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大，只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大，以及当时发展芯片产业时机未到，国产的光刻机产业链逐渐凋零，如今经过近十年时间的努力，国内光刻机产业链再度打通也就不在话下。

中国在光刻机技术方面的快速突破，已让ASML感到担忧，事实上此前在美国的诸多压力下，ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展，中国迟早能解决光刻机问题。

对于ASML来说，中国市场对它意义重大，2021年和今年一季度中国市场为它贡献了三分之一的收入，已成为它的最大市场，如此大的市场，当然是ASML不能轻易舍弃的，事实今年一季度在诸多压力下，ASML就紧急对中国出货23台DUV光刻机，更计划在中国增加200名员工，以更好地为中国客户服务，取得更多市场。

ASML另一重担忧则是中国光刻机技术的快速发展，可能成为它的竞争对手，中国制造此前的事实一再证明，只要中国取得突破的技术，那么量产的产品往往比海外竞争对手的便宜许多，在成本方面ASML根本就不是中国同行的竞争对手。

中国除了继续研发光刻机之外，还在研发无需光刻机的芯片制造工艺，这方面已有日本做出示范，日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用，证明了无需光刻机也能生产芯片，而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产，如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾。

这些消息都无不让ASML如鲠在喉，所以美国方面一再施加压力，但是ASML却一直都认为限制DUV光刻机没有多大意义，DUV光刻机已是多年前就已成熟的技术，中国在DUV光刻机方面的进展将会更快，如今中国在EUV光刻机技术上的进展如此迅速，显示出中国不仅在DUV光刻机技术方面进展迅速，在更先进的EUV光刻机技术方面同样很快。